PECVD型等离子增强化学气相沉积系统
| 是否有现货： | 是 | 认证： | 上海 |
| 品牌： | 上海微行 | 加工定制： | 是 |
| 最大电压： | 380 | 功率： | 30kw |
| 额定温度： | 1200 | 主要用途： | 气相沉积薄膜 |
| 产品认证： | 上海 | 型号： | MXGH1200-PECVD |
| 规格： | 可定制 | 产量： | 100 |
PECVD产品简介：
此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置，可准确的控制反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常简单实用，工艺重复性好，对于石墨烯生长工艺非常合适，也同样适用于要求快速升降温的CVD实验。
主要功能和特点：
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利用辉光放电产生等离子体电子激活气相； 提高了气相反应的沉积速率、成膜质量； 可通过调整射频电源频率来控制沉积速率； 能广泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生长。?
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| 滑轨管式炉技术参数 |
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石英管尺寸 |
L1400mm ?Φ（60、80、100） |
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| 加热元件 |
掺钼铁铬铝合金电阻丝 |
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| 测温元件 |
K型热电偶 |
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| 加热区长度 |
400mm ? |
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| 恒温区长度 |
200mm |
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| 工作温度 |
≤1100℃ |
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| 控温模式 |
模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能 |
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| 控温精度 |
±1℃ |
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| 升温速率 |
≤20℃/min |
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| 电功率 |
AC220V/50HZ/3KW |
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| 质量供气系统技术参数 |
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外形尺寸 |
600x600x600mm |
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| 标准量程 |
50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar、N2）； |
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| 压力表测量范围 |
-0.1Mpa～0.15Mpa |
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| 极限压力 |
3MPa |
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| 针阀 |
316不锈钢 |
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| 截止阀 |
Φ6mm 316不锈钢针阀 |
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| 电功率 |
AC220V/50HZ/20W |
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| 响应时间 |
气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec |
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| 准确度 |
±1.5% |
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| 线性 |
±0.5～1.5% |
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| 重复精度 |
±0.2% |
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| 接口 |
Φ6,1/4'' |
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| 真空系统技术参数 |
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外型尺寸 |
600×600×600mm |
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| 工作电电压 |
220V±10% ?50~60HZ |
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| 功率 |
400W |
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| 抽气速率 |
4L\s |
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| 极限真空 |
4X10-2Pa |
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| 实验真空度 |
1.0X10-1Pa |
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| 容油量 |
1.1L |
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| 进气口口径 |
KF25 |
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| 排气口口径 |
KF25 |
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| 转速 |
1450rpm |
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| 射频电源 |
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信号频率 |
13.56 MHz±0.005% |
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| 功率输出范围 |
3W-300W ??5W-500W可选 |
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| 最大反射功率 |
200W |
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| 射频输出接口 |
50 Ω, N-type, female |
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| 功率稳定度 |
±0.1% |
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| 谐波分量 |
≤-50dbc |
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| 供电电压 |
单相交流（187V-253V）?频率50/60HZ |
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| 整机效率 |
>=70% |
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| 功率因素 |
>=90% |
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| 冷却方式 |
强制风冷 |
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