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PECVD型等离子增强化学气相沉积系统 |
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“PECVD型等离子增强化学气相沉积系统”参数说明
“PECVD型等离子增强化学气相沉积系统”详细介绍
PECVD产品简介: 此款设备配有Plasma实现等离子增强,滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置,可准确的控制反应腔体内部的气体压力,带刻度的调节阀对于做低压CVD非常简单实用,工艺重复性好,对于石墨烯生长工艺非常合适,也同样适用于要求快速升降温的CVD实验。 主要功能和特点: ? 利用辉光放电产生等离子体电子激活气相; 提高了气相反应的沉积速率、成膜质量; 可通过调整射频电源频率来控制沉积速率; 能广泛用于:石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生长。? ?
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